名詞解釋

Opc光學(xué)臨界校正

答案: 補償當(dāng)圖形尺寸和曝光光線尺寸臨近時所產(chǎn)生的衍射效應(yīng)。
題目列表

你可能感興趣的試題

名詞解釋

PSM移相掩膜

答案: 相移掩膜上的電介質(zhì)層在光刻版上開口部分以間隔的方式形成相移圖形,通過沒有相移涂敷開口部分的光線,會與通過有相移涂敷開口的...
名詞解釋

正光刻膠

答案: 曝光區(qū)域變軟并最后被溶解。負(fù)膠則相反。
微信掃碼免費搜題