<option id="c5j1x"></option>

<tbody id="c5j1x"></tbody>

<pre id="c5j1x"><pre id="c5j1x"></pre></pre>

<track id="c5j1x"><input id="c5j1x"></input></track>

單項(xiàng)選擇題

二氧化硅中每個(gè)硅原子周?chē)校ǎ﹤€(gè)氧原子。

A.1
B.2
C.3
D.4

你可能感興趣的試題

單項(xiàng)選擇題

以下哪項(xiàng)不是STI工藝氣體？（）

A.SiH₄
B.O₂
C.N₂O
D.Ar

單項(xiàng)選擇題

CMP清洗部分的順序是（）。

A.兆聲清洗（Meg）-SRD（甩干）-Brush（刷洗）
B.兆聲清洗（Meg）-Brush（刷洗）-SRD（甩干）
C.Brush（刷洗）-兆聲清洗（Meg）-SRD（甩干）
D.Brush（刷洗）-SRD（甩干）-兆聲清洗（Meg）

<listing id="rnkib"><object id="rnkib"></object></listing>