問(wèn)答題例舉出芯片廠中6個(gè)不同的生產(chǎn)區(qū)域并對(duì)每一個(gè)生產(chǎn)區(qū)域做簡(jiǎn)單描述。
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離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
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例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
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定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
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解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
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