例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

描述RF濺射系統(tǒng)。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個步驟。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

解釋什么是暗場掩模板？

描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。