填空題

光學(xué)光刻機主要有（）等幾種。非光學(xué)光刻機主要有（）。

答案： 接觸式、接近式、投影式和分步重復(fù)光刻機；電子束光刻機和X射線光刻機
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填空題

光刻工藝的主要工序有：（）組成。
答案： 涂膠、前烘、對位、曝光、顯影、堅膜、介質(zhì)刻蝕、去膠
填空題

快速熱處理設(shè)備（RTP）的主要熱交換機制是（），常用熱源是（）。RTP的主要優(yōu)點是 （）。
答案： 熱輻射；鎢-鹵燈；時間短可減少雜質(zhì)的再分布、燈光加熱無污染
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