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問答題
【簡(jiǎn)答題】二氧化硅，鋁，硅和光刻膠刻蝕分別使用什么化學(xué)氣體來實(shí)現(xiàn)干法刻蝕？
答案：
刻蝕硅采用的化學(xué)氣體為CF4/O2和CL2.刻蝕二氧化...
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問答題
【簡(jiǎn)答題】列出在干法刻蝕中發(fā)生刻蝕反應(yīng)的六種方法？
答案：
1.對(duì)不需要刻蝕的材料的高選擇比
2.獲得可接受的產(chǎn)能的刻蝕速率
3.好的側(cè)壁剖面控制
4...
2.獲得可接受的產(chǎn)能的刻蝕速率
3.好的側(cè)壁剖面控制
4...
問答題
【簡(jiǎn)答題】列舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)，干法刻蝕的不足之處是什么？
答案：
優(yōu)點(diǎn)：
1.刻蝕剖面是各向異性，具有非常好的側(cè)壁剖面控制
2.好的CD控制。
3.最小的光...
1.刻蝕剖面是各向異性，具有非常好的側(cè)壁剖面控制
2.好的CD控制。
3.最小的光...
