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【簡答題】列出按材料分類的三種主要干法刻蝕。
答案:
金屬刻蝕、介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕
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【簡答題】刻蝕的目的是什么?
答案:
目的是為涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。
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【簡答題】列舉下一代光刻技術(shù)中4種正在研發(fā)的光刻技術(shù)。
答案:
1.極紫外光刻技術(shù)(EUV)
2.離子束投影光刻技術(shù)(IPL)
3.角度限制投影電子束光刻技術(shù)(SC...
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