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問答題
【簡答題】刻蝕的目的是什么？
答案：
目的是為涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。
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問答題
【簡答題】列舉下一代光刻技術(shù)中4種正在研發(fā)的光刻技術(shù)。
答案：
1.極紫外光刻技術(shù)（EUV）
2.離子束投影光刻技術(shù)（IPL）
3.角度限制投影電子束光刻技術(shù)（SC...
2.離子束投影光刻技術(shù)（IPL）
3.角度限制投影電子束光刻技術(shù)（SC...
問答題
【簡答題】光學(xué)光刻技術(shù)的改進(jìn)有哪些方面？
答案：
1.減小紫外線光源波長；
2.提高光學(xué)光刻工具的數(shù)值孔徑；
3.化學(xué)放大深紫外光刻膠；
4...
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3.化學(xué)放大深紫外光刻膠；
4...
