下面選項屬于主擴散的作用有()。 1.調(diào)節(jié)表面濃度 2.控制進入硅表面內(nèi)部的雜質(zhì)總量 3.控制結(jié)深
A.1 B.2 C.3 D.1、3
不論正膠或負膠,光刻過程中都包括如下步驟: 1.刻蝕 2.前烘 3..顯影 4.去膠 5.涂膠 6.曝光 7.堅膜 以下選項排列正確的是:()。
A.2561437 B.5263471 C.5263741 D.5263714。
A.結(jié)晶形二氧化硅 B.無定形二氧化硅