單項選擇題
不論正膠或負膠，光刻過程中都包括如下步驟：
1.刻蝕
2.前烘
3..顯影
4.去膠
5.涂膠
6.曝光
7.堅膜
以下選項排列正確的是：（）。
A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。
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1.單項選擇題半導體器件生產中所制備的二氧化硅薄膜屬于（）。
A.結晶形二氧化硅
B.無定形二氧化硅
2.名詞解釋再分布
3.名詞解釋平均投影射程RP
4.名詞解釋非橋鍵氧
5.名詞解釋阱