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A.它出現(xiàn)于磁導(dǎo)率不同的分界線上
B.由被磁化的試件與未磁化的試件接觸而引起
C.由于磁化磁場(chǎng)過(guò)強(qiáng)而引起
D.由于磁化電流太大而引起
E.由于被磁化的試件相互接觸而造成
F.E和B

A.凡有磁痕的部位都是缺陷部位
B.雖然沒(méi)有缺陷，有時(shí)也會(huì)出現(xiàn)類(lèi)似缺陷的磁痕
C.當(dāng)發(fā)現(xiàn)磁痕時(shí)，必須觀察其表面狀態(tài)及表層下結(jié)構(gòu)，以免誤碼判
D.為確定磁痕是否缺陷引起，有時(shí)需檢驗(yàn)其重復(fù)性
E.除A以外都對(duì)