A.它出現(xiàn)于磁導(dǎo)率不同的分界線上 B.由被磁化的試件與未磁化的試件接觸而引起 C.由于磁化磁場過強(qiáng)而引起 D.由于磁化電流太大而引起 E.由于被磁化的試件相互接觸而造成 F.E和B
A.凡有磁痕的部位都是缺陷部位 B.雖然沒有缺陷,有時也會出現(xiàn)類似缺陷的磁痕 C.當(dāng)發(fā)現(xiàn)磁痕時,必須觀察其表面狀態(tài)及表層下結(jié)構(gòu),以免誤碼判 D.為確定磁痕是否缺陷引起,有時需檢驗其重復(fù)性 E.除A以外都對
A.用較高的安培值重新磁化 B.用較低的安培值重新磁化 C.退磁 D.A和C