問答題

【簡答題】簡要說明正膠和負膠的關光刻原理與特性。

答案: 原理:臨時性地涂覆在硅片表面,通過曝光轉(zhuǎn)移設計圖形到光刻膠上。
負膠特性:
1曝光后不可溶解
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問答題

【簡答題】為什么說光刻是IC制造中最重要的工藝?光刻的三個要素是什么?

答案: 因為光刻在IC制造中
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