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問答題
【簡答題】常見的光刻對(duì)準(zhǔn)曝光設(shè)備有？
答案：
接觸式光刻機(jī)；接近式光刻機(jī)；掃描投影光刻機(jī)；分步重復(fù)投影光刻機(jī)；步進(jìn)掃描光刻機(jī)。
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問答題
【簡答題】什么是正光刻膠，負(fù)光刻膠？
答案：
正光刻膠：膠的曝光區(qū)在顯影中除去，當(dāng)前常用正膠為DQN，組成為光敏劑重氮醌（DQ），堿溶性的酚醛樹脂（N），和溶劑二甲苯...
