問答題

【簡答題】硅片研磨及清洗后為什么要進行化學腐蝕？

答案：

工序目的：去除表面因加工應(yīng)力而形成的損傷層及污染
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問答題

【簡答題】硅片表面吸附雜質(zhì)清洗順序是什么？
答案：

清洗順序：去分子－去離子－去原子－去離子水沖洗－烘干、甩干
問答題

【簡答題】硅片表面吸附雜質(zhì)的存在狀態(tài)有哪些？
答案：

被吸附雜質(zhì)的存在狀態(tài)：分子型、離子型、原子型
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