問答題

【簡答題】常用的CVD哪幾種？說明各自的優(yōu)缺點以及應用領域。

答案： （1）常壓化學氣相淀積，這種工藝所需的系統(tǒng)簡單，反應速度快，并特別適于介質淀積，但是它的缺點是均勻性較差，氣體消耗量大，...
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【簡答題】雙極型集成電路的工藝流程具體有哪些？
答案： 1、襯底制備；
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3、外延生長；
4、生長隔離區(qū)（隔...
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【簡答題】簡述直拉法生長單晶硅的工藝過程，并說明每個步驟各自有什么作用？
答案： （1）引晶，可以使熔融硅與籽晶間溫度平衡；
（2）縮頸，是為了消除籽晶原有的缺陷或引晶時由于溫度變化引起的新生...
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