最新試題
光刻工藝的設(shè)備核心是()。
題型:單項選擇題
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進(jìn)行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
題型:單項選擇題
化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
題型:單項選擇題
碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
題型:判斷題
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
題型:多項選擇題
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)?()
題型:單項選擇題
光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括()。
題型:多項選擇題
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
題型:單項選擇題
厚膜電阻的成分,一是導(dǎo)體顆粒,二是()。
題型:單項選擇題
封裝工藝中,銀漿固化的溫度為()。
題型:單項選擇題