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前烘的目的是()使膠膜中的溶劑只有初始濃度的()。從而,使膠的()性能穩(wěn)定。對(duì)正膠,前烘過(guò)度會(huì)使非曝光區(qū)的膠();前烘不足,會(huì)使膠的感光度(),對(duì)比度(),線條邊緣不陡直。所以,必須嚴(yán)格控制前烘的()和()。
答案:
去除膠膜中的大部分溶劑;5%;曝光;部分溶解;提高;降低;時(shí)間;溫度
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填空題
光刻膠的三種主要成分是:()。正膠的感光劑是(),曝光使其(),正膠的曝光區(qū)在顯影后(); 曝光使負(fù)膠的感光劑(),使曝光區(qū)在顯影后()。
答案:
感光劑、基體材料和溶劑;重氮醌;長(zhǎng)鏈分子斷裂;去除;交聯(lián);保留
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填空題
光學(xué)光刻機(jī)的主要曝光光線的是波長(zhǎng)為()的g線和()的i線,適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用()的KrF和()的ArF準(zhǔn)分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
答案:
436nm;365nm;248nm;193nm
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