問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】離子注入后為什么要進(jìn)行退火？

答案：推進(jìn)，激活雜質(zhì)，修復(fù)損傷。

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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】離子注入前一般需要先生長(zhǎng)氧化層，其目的是什么？

答案：氧化層保護(hù)表面免污染，免注入損傷，控制注入溫度。

問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】例舉出芯片廠中6個(gè)不同的生產(chǎn)區(qū)域并對(duì)每一個(gè)生產(chǎn)區(qū)域做簡(jiǎn)單描述。

答案：芯片廠中通常分為擴(kuò)散區(qū)、光刻區(qū)、刻蝕區(qū)、離子注入?yún)^(qū)、薄膜生長(zhǎng)區(qū)和拋光區(qū)6個(gè)生產(chǎn)區(qū)域：
①擴(kuò)散區(qū)是進(jìn)行高溫工藝及...