一般情況下，刻蝕完成后需要進(jìn)行的操作是（）

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn)，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）

說明功能檢測(cè)工裝的制作原理？

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）