根據(jù)曝光模式，光制機的種類分為（）。

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）

利用高溫驅(qū)動雜質(zhì)滲透進半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？