通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應用于（）

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內的成分來判斷是否達到終點的終點檢測方法是（）

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

下列可能造成離子源沾污的因素是（）

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設定于（）。

假設光刻膠的厚度是2000埃，二氧化硅的厚度為4000塊，如果要求經過30秒的刻蝕后，厚度變?yōu)?400埃，那么這個過程中刻蝕速率是（）埃/分鐘。

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質量要求的是（）

調試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？