以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

說明功能檢測工裝的制作原理？

影響顯影工藝的因素有（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

回態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源有（）

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點(diǎn)？

利用高溫驅(qū)動雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）

調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？