以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

說明功能檢測工裝的制作原理？

利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。

電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）

堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。