由硅片生產(chǎn)的半導體產(chǎn)品，又被稱為（）。

從設(shè)計的觀點出發(fā)，版圖設(shè)計規(guī)則應(yīng)包括哪些部分？

試述兩種傳輸線電感，比較其優(yōu)缺點。

比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。

由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容，這種電容稱為（）。

什么是電阻率？它的單位是什么（國際標準單位制）？

版圖設(shè)計的基本前提是什么？

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？

試用電導率為102/（Ω·cm），厚1μm的材料設(shè)計1kΩ的電阻，設(shè)電阻寬1μm，求其長。

圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線，請畫出Id2的大致變化，并說明Id1和Id2有什么不同，并解釋不同的主要原因。