單項(xiàng)選擇題
A.不需要坩堝 B.避免了容器污染 C.更易獲得高純度硅 D.成本低
多項(xiàng)選擇題
A.鈍化晶界 B.鈍化錯(cuò)位 C.鈍化電活性雜質(zhì)
A.頭尾料和鍋底料中含有的氧 B.晶體生長(zhǎng)過(guò)程中硅熔體與石英坩堝作用引入的氧 C.石墨加熱器與坩堝反應(yīng)引入的氧 D.外界空氣的進(jìn)入
A.高能耗 B.成本低 C.產(chǎn)量高 D.質(zhì)量穩(wěn)定
A、1234 B、123 C、2457 D、4567
A、6 B、2 C、4 D、5
A、損壞 B、蒸發(fā) C、坩堝污染 D、分凝
A、加料—縮頸生長(zhǎng)—熔化—放肩生長(zhǎng)—等徑生長(zhǎng)—尾部生長(zhǎng) B、加料—熔化—縮頸生長(zhǎng)—等徑生長(zhǎng)—放肩生長(zhǎng)—尾部生長(zhǎng) C、加料—熔化—等徑生長(zhǎng)—放肩生長(zhǎng)—縮頸生長(zhǎng)—尾部生長(zhǎng) D、加料—熔化—縮頸生長(zhǎng)—放肩生長(zhǎng)—等徑生長(zhǎng)—尾部生長(zhǎng)