A.大電流,試樣燒完
B.大電流,試樣不燒完
C.小電流,試樣燒完
D.先小電流,后大電流至試樣燒完
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光柵公式中的b值與下列哪種因素有關(guān)?()
A.閃耀角
B.衍射角
C.譜級(jí)
D.刻痕數(shù)(mm-1)
A.大一倍
B.相同
C.小一倍
D.小兩倍
A.Si251.61─Zn251.58nm
B.Ni337.56─Fe337.57nm
C.Mn325.40─Fe325.395nm
D.Cr301.82─Ce301.88nm
A.材料本身的色散率
B.光軸與感光板之間的夾角
C.暗箱物鏡的焦距
D.光線的入射角
閃耀光柵的特點(diǎn)之一是要使入射角、衍射角和閃耀角之間滿足下列條件()。
A.
B.
C.
D.
最新試題
原子熒光法做檢出限測試時(shí)應(yīng)對(duì)空白樣品連續(xù)測定7次。
儀器結(jié)果保存時(shí)應(yīng)該分類,并按照年月日依次保存,不能重復(fù)命名,便于上傳時(shí)和以后查找。
選用ICP-AES分析鎳鐵中砷時(shí),使用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以不進(jìn)行背景校正。
X射線熒光光譜儀長時(shí)間停用后,可以直接調(diào)整電壓和電流至工作電壓和電流。
氧氮分析儀器長期運(yùn)行和頻繁使用,儀器的各部件會(huì)發(fā)生老化和磨損,因此分析人員要定期檢查與維護(hù)儀器。
ICPMS微波消解溶樣時(shí)開啟微波消解罐時(shí)應(yīng)戴好手套和防護(hù)眼鏡。
直讀光譜分析中,電極與試樣的距離對(duì)分析結(jié)果有影響。
原子吸收光度法,WM-2H型無油氣體壓縮機(jī),表壓不在“0”為時(shí),不得開機(jī)。
金屬的直讀光譜分析使用的內(nèi)標(biāo)元素,通常為基體元素。
從ICP-AES干擾原理出發(fā),使用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以有效地消除光譜干擾。