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【簡答題】光刻技術(shù)中的常見問題有那些?
答案:
半導(dǎo)體器件和集成電路的制造對(duì)光刻質(zhì)量有如下要求:
一是刻蝕的圖形完整,尺寸準(zhǔn)確,邊緣整齊陡直;
二是...
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【簡答題】試簡述硅集成電路平面制造工藝流程中常規(guī)光刻工序正確的工藝步驟。
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問答題
【簡答題】什么是光刻,光刻系統(tǒng)的主要指標(biāo)有那些?
答案:
光刻(photolithography)就是將掩模版(光刻版)上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對(duì)光輻照敏感薄膜材...
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