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問答題
【簡答題】簡述干法刻蝕的應(yīng)用
答案：
介質(zhì)——氧化物和氮化硅
硅——多晶硅柵和單晶硅槽
金...
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答案：
負(fù)載效應(yīng)：要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域，則會耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來；如果刻蝕的面積比較小，則刻蝕會快些
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