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問答題

【簡答題】光刻和刻蝕的目的是什么？

答案：光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上，而刻蝕的目的是在硅片上無光刻膠保護的地方留下永久的圖形。即將圖形轉(zhuǎn)...

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【簡答題】離子注入后為什么要進行退火？

答案：推進，激活雜質(zhì)，修復(fù)損傷。

【簡答題】離子注入前一般需要先生長氧化層，其目的是什么？

答案：氧化層保護表面免污染，免注入損傷，控制注入溫度。