A.磁疇磁矩位移
B.磁疇磁矩轉(zhuǎn)動(dòng)
C.疇壁發(fā)生位移
D.磁疇磁矩不動(dòng)
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A.探頭的指向性會(huì)改變
B.正對(duì)缺陷檢測(cè)缺陷回波高
C.缺陷最高回波在探頭軸線上
D.正對(duì)缺陷檢測(cè)缺陷回波低
A.辦理手續(xù)
B.保養(yǎng)設(shè)備
C.檢定合格
D.貼上合格標(biāo)識(shí)
A.以磁場(chǎng)為媒介
B.磁光效應(yīng)屬于此技術(shù)范疇
C.被測(cè)物理量轉(zhuǎn)換為可測(cè)量磁場(chǎng)信號(hào)
D.磁場(chǎng)電效應(yīng)不屬于此技術(shù)范疇
A.位置
B.性質(zhì)
C.形狀
D.取向
A.陽(yáng)接頭拉斷
B.安全聯(lián)鎖失靈
C.驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)失靈
D.源外包殼與源座脫開
最新試題
人的眼睛在強(qiáng)光下，（）。
對(duì)滲透探傷無影響的是（）。
關(guān)于相似相溶經(jīng)驗(yàn)法則的說法正確的有（）。
表面波檢測(cè)中，利用表面波檢測(cè)（）效果好。
顯影斑紋呈黑色條狀或?qū)拵?，在整張底片范圍出現(xiàn)，其產(chǎn)生的原因是（）。
滲透檢測(cè)工藝對(duì)顯像操作的要求有（）。
滲透檢測(cè)時(shí)，滲入的滲透液有一些被截留在缺陷內(nèi)，將受檢部位置于合適的光源（發(fā)光強(qiáng)度足夠）下檢查時(shí)，下列說法正確的有（）。
工藝評(píng)定試件焊后應(yīng)進(jìn)行（）。
對(duì)漏磁檢測(cè)原理描述正確的有（）。
將彎曲液面對(duì)液體的壓強(qiáng)與平面液面對(duì)液體的壓強(qiáng)相比，任何液面膜對(duì)液體施以附加壓強(qiáng)，下面描述正確的是（）。