在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱（）

硅片拋光在原理上不可分為（）

對(duì)于同時(shí)存在一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)的均勻摻雜的非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體，在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時(shí)，半導(dǎo)體具有（）半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。

表面態(tài)中性能級(jí)位于費(fèi)米能級(jí)以上時(shí)，該表面態(tài)為（）；

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點(diǎn)不包括（）

只涉及到大約一個(gè)原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括（）

用能量（）禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會(huì)產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

CZ法的主要流程工藝順序正確的是（）