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A、藥包直徑
B、藥包外殼
C、裝藥密度
D、徑向間隙
E、炸藥粒度

A、液壓鑿巖機(jī)
B、電動(dòng)鑿巖機(jī)
C、內(nèi)燃鑿巖機(jī)
D、柴油鑿巖機(jī)
E、空動(dòng)鑿巖機(jī)

A、呈直線式破壞
B、呈躍進(jìn)式破壞
C、產(chǎn)生承壓核
D、形成破碎漏斗
E、呈線性式破壞

A、極不穩(wěn)固：掘進(jìn)巷道或采礦時(shí)，不允許有暴露面積，否則可能產(chǎn)生片幫或冒落現(xiàn)象
B、不穩(wěn)固：不支護(hù)的允許暴露面積在50m²以內(nèi)
C、中等穩(wěn)固：不支護(hù)的允許暴露面積為50～200m²
D、穩(wěn)固：不支護(hù)的允許暴露面積為200～800m²
E、極穩(wěn)固：不支護(hù)的允許暴露面積在800m²以上

A、地下破碎及裝載硐室
B、水泵房和水倉(cāng)
C、空壓機(jī)房
D、地下變電硐室
E、地下炸藥庫(kù)

A、中央并列式
B、中央對(duì)角式
C、側(cè)翼對(duì)角式
D、中間式
E、兩邊對(duì)角式

A、平硐與盲豎井聯(lián)合開拓法
B、明豎井與盲豎井聯(lián)合開拓法
C、明豎井與盲斜井聯(lián)合開拓法
D、明斜井與盲豎井聯(lián)合開拓法
E、明斜井與盲斜井聯(lián)合開拓法

A、下盤斜井開拓法
B、上盤斜井開拓法
C、脈內(nèi)斜井開拓法
D、側(cè)翼斜井開拓法
E、脈外斜井開拓法

A、垂直豎井開拓法
B、下盤豎井開拓法
C、上盤豎井開拓法
D、上向豎井開拓法
E、側(cè)翼豎井開拓法

A、垂直礦體走向下盤平硐開拓法
B、沿礦體走向平硐開拓法
C、平行礦體走向上盤平硐開拓法
D、垂直礦體走向上盤平硐開拓法
E、交叉礦體走向上盤平硐開拓法