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常用來(lái)制造半導(dǎo)體發(fā)光二極管的材料是直接躍遷晶體材料。
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雙極型集成電路工藝是用來(lái)制造CMOS集成電路。
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在集成電路制造工藝步驟中,光刻與刻蝕能把掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上來(lái)。
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