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判斷題

在集成電路制造工藝步驟中，光刻與刻蝕能把掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上來(lái)。

答案：正確

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EDA是計(jì)算機(jī)輔助測(cè)試的英文簡(jiǎn)稱(chēng)。

答案：錯(cuò)誤

雙極集成電路中的晶體管工作機(jī)理依賴(lài)于電子或者空穴。

答案：錯(cuò)誤