金屬化中可選用的金屬材料有（）。

光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。

進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。

下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)？（）

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

常壓的硅外延方法有（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。