問答題簡述光刻工藝步驟。
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最新試題
在晶體材料中,對于長程有序的原子模式最基本的實體就是()。
題型:單項選擇題
利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
題型:問答題
版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么?
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編寫DRC版圖驗證文件的主要依據(jù)是什么?
題型:問答題
從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
題型:多項選擇題
目前集成電路版圖設(shè)計的主流工具有哪些?
題型:問答題
試述兩種傳輸線電感,比較其優(yōu)缺點。
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題型:問答題
試用電導率為102/(Ω·cm),厚1μm的材料設(shè)計1kΩ的電阻,設(shè)電阻寬1μm,求其長。
題型:問答題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。
題型:問答題