首頁
題庫
網課
在線???/a>
桌面端
登錄
搜標題
搜題干
搜選項
0
/ 200字
搜索
問答題
【簡答題】明兩步擴散法的基本思想,及其每一步工藝的主要特點和目的。
答案:
第一步:恒定表面濃度的擴散(預沉積擴散Pre-deposition);
目的:控制摻入的雜質總量;
...
點擊查看完整答案
在線練習
手機看題
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】解釋有限表面源擴散,列出有限表面源擴散的三種主要工藝參數,并說明其含義和主要影響因素。
答案:
擴散前先在硅片表面淀積一定數量的雜質,然后在整個擴散過程中將這層雜質作為擴散的雜質源,不再有新源補充,這種擴散方式稱為有...
點擊查看完整答案
手機看題
問答題
【簡答題】列出恒定表面源擴散的三種主要工藝參數,并說明其含義和主要影響因素。
答案:
摻雜劑量(Predeposition dose):單位面積硅片內的雜質數。
對于恒定表面源擴散,由于...
點擊查看完整答案
手機看題
微信掃碼免費搜題