問答題

【簡答題】明兩步擴散法的基本思想,及其每一步工藝的主要特點和目的。

答案: 第一步:恒定表面濃度的擴散(預沉積擴散Pre-deposition);
目的:控制摻入的雜質總量;
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問答題

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問答題

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答案: 摻雜劑量(Predeposition dose):單位面積硅片內的雜質數。
對于恒定表面源擴散,由于...
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