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多項(xiàng)選擇題

濺射的方法非常多其中包括（）。

A.直流濺射
B.交流濺射
C.反應(yīng)濺射
D.二級(jí)濺射
E.三級(jí)濺射

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多項(xiàng)選擇題

一般來(lái)說(shuō)，濺射鍍膜的過(guò)程包括（）這幾步。

A.產(chǎn)生一個(gè)離子并導(dǎo)向靶
B.被轟擊的原子向硅晶片運(yùn)動(dòng)
C.離子把靶上的原子轟出來(lái)
D.經(jīng)過(guò)加速電場(chǎng)加速
E.原子在硅晶片表面凝結(jié)

單項(xiàng)選擇題

（）是指每個(gè)入射離子濺射出的靶原子數(shù)。

A.濺射率
B.濺射系數(shù)
C.濺射效率
D.濺射比

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