單項(xiàng)選擇題

為了避免（）在經(jīng)過(guò)氯化物等離子體刻蝕之后的殘留物使其發(fā)生腐蝕，必須在刻蝕完畢之后再增加一道工序來(lái)除去這些表面殘留物。

A.多晶硅
B.單晶硅
C.鋁硅銅合金
D.銅

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單項(xiàng)選擇題

銅與氯形成的化合物揮發(fā)能力不好，因而銅的刻蝕無(wú)法以化學(xué)反應(yīng)來(lái)進(jìn)行，而必須施以（）。

A.等離子體刻蝕
B.反應(yīng)離子刻蝕
C.濕法刻蝕
D.濺射刻蝕

單項(xiàng)選擇題

濺鍍法，因?yàn)槠潆A梯覆蓋的能力不良，很容易造成因填縫不完全所留下的（）。

A.鳥(niǎo)嘴
B.空洞
C.裂痕
D.位錯(cuò)

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