單項選擇題在實際工作中,常常需要知道離子注入層內損傷量按()的分布情況。

A.長度
B.深度
C.寬度
D.表面平整度


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2.單項選擇題晶體中,每個原子在晶格中有一定的平衡位置,原子在此位置時其勢能為()。

A.極大值
B.極小值
C.既不極大也不極小
D.小于動能

3.單項選擇題離子源腔體中的氣體放電形成()而引出正離子的。

A.等離子體
B.不等離子體
C.正離子體
D.液電流

4.多項選擇題離子注入的主要氣體源中,易燃、易爆的有()。

A.砷化氫
B.二硼化氫
C.三氟化硼
D.硅烷
E.氧氣

5.多項選擇題半導體芯片生產中,離子注入主要是用來()。

A.氧化
B.改變導電類型
C.涂層
D.改變材料性質
E.鍍膜