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單項選擇題

涂膠以后的晶片，需要在一定的溫度下進行烘烤，這一步驟稱為（）。

A.后烘
B.去水烘烤
C.軟烤
D.烘烤

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多項選擇題

涂膠之前，要保證晶片的質量以及涂膠工序的順利進行，下列操作正確的是（）。

A.進行去水烘烤以保證晶片干燥
B.在晶片表面涂上增粘劑以保證晶片黏附性好
C.剛剛處理好的晶片應立即涂膠
D.貯存的晶片在涂膠前必須再次清洗及干燥
E.也可以直接使用貯存的晶片

單項選擇題

光刻工藝中，脫水烘焙的最初溫度是（）。

A.150－200℃
B.200℃左右
C.250℃左右
D.300℃左右