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單項(xiàng)選擇題
半導(dǎo)體硅常用的施主雜質(zhì)是()。
A.錫
B.硫
C.硼
D.磷
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單項(xiàng)選擇題
在將清洗完的硅片放進(jìn)擴(kuò)散爐擴(kuò)散時(shí),需要將硅片先裝入(),然后再裝入擴(kuò)散爐。
A.耐熱陶瓷器皿
B.金屬器皿
C.石英舟
D.玻璃器皿
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單項(xiàng)選擇題
通常熱擴(kuò)散分為兩個(gè)大步驟,其中第一個(gè)步驟是()。
A.再分布
B.等表面濃度擴(kuò)散
C.預(yù)淀積
D.等總摻雜劑量擴(kuò)散
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