問(wèn)答題

【論述題】根據(jù)曝光方式的不同，光學(xué)光刻機(jī)可以分成幾類(lèi)？各有什么優(yōu)缺點(diǎn)？

答案： 根據(jù)曝光方式不同光學(xué)光刻機(jī)主要分為三種：接觸式，接近式，投影式。接觸式：接觸式光刻機(jī)是最簡(jiǎn)單的光刻機(jī)，曝光時(shí)，掩模壓在涂...
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問(wèn)答題

【論述題】在干法刻蝕的終點(diǎn)檢測(cè)方法中，光學(xué)放射頻譜分析法最常見(jiàn)，簡(jiǎn)述其工作原理和優(yōu)缺點(diǎn)。
答案： 光學(xué)放射頻譜分析是利用檢測(cè)等離子體中某種波長(zhǎng)的光線強(qiáng)度變化來(lái)達(dá)到終點(diǎn)檢測(cè)的目的。光強(qiáng)的變化反映了等離子體中原子或分子濃度...
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