給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋什么是暗場掩模板？

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機理和物理機理。