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問答題

【簡答題】簡述幾種常用的氧化方法及其特點。

答案：制備SiO2的方法有很多，熱分解淀積、濺射、真空蒸發(fā)、陽極氧化法、化學氣相淀積、熱氧化法等。熱生長法制備的SiO2質量好...

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【簡答題】什么是兩步擴散工藝，其兩步擴散的目的分別是什么？

答案：實際的擴散溫度一般為900-1200℃，在這個溫度范圍內，雜質在硅中的固溶度隨溫度變化不大，采用恒定表面源...

【論述題】假設進行一次受固溶度限制的預淀積擴散，從摻雜玻璃源引入的雜質總劑量為Qcm^-2。

答案：（1）如果這次預淀積進行了總共t分鐘，若預淀積溫度不變，引入3Qcm^-2

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