例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。