絲網印刷膜的厚度不隨著刮板移動速度的增加而減小。（）

光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。（）

半導體芯片制造工藝對水質的要求一般.（）

在半導體集成電路中，各元器件都是制作在同一晶片內。因此要使它們起著預定的作用而不互相影響，就必須使它們在電性能上相互絕緣。（）

位錯就是由范性形變造成的，它可以使晶體內的一原子或離子脫離規(guī)則的周期排列而位移一段距離，位移區(qū)與非位移區(qū)交界處必有原子的錯位，這樣產生線缺陷稱為位錯。（）

場效應晶體管的柵源電壓變化可以控制漏電流變化。（）

厚膜漿料存在觸變性，流體受到外力作用時黏度迅速下降，外力消失后，黏度迅速恢復原狀。（）

厚膜元件材料的粉末顆粒越小、表面形狀謦復雜，比表面積就越大，則表面自由能也就越高，對燒結越有利。（）

金屬剝離工藝是以具有一定圖形的光致抗蝕劑膜為掩膜，帶膠蒸發(fā)或濺射所需的金屬，然后在去除光致抗蝕劑膜的同時，把膠膜上的金屬一起去除干凈。（）

邏輯電路只能處理“非O即1“這兩個值。（）