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多項選擇題
按蒸發(fā)源加熱方法的不同,真空蒸發(fā)工藝可分為:()蒸發(fā)、()蒸發(fā)、離子束蒸發(fā)等。
A.電阻加熱
B.電子束
C.蒸氣原子
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單項選擇題
將預先制好的掩膜直接和涂有光致抗蝕劑的晶片表面接觸,再用紫外光照射來進行曝光的方法,稱為()曝光。
A.接觸
B.接近式
C.投影
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單項選擇題
光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導體晶片表面的掩膜層上的工藝()
A.刻制圖形
B.繪制圖形
C.制作圖形
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