單項選擇題判定缺陷時,若底面第一次反射波波高(),缺陷第一次反射波波高與底面第一次反射波波高之比大于或等于50%,既可判為缺陷

A、>100%
B、<100%
C、>50%
D、<50%


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2.單項選擇題GB 11345-89標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,需要進行波幅和指示長度測定的缺陷是()

A、III區(qū)的缺陷
B、II區(qū)的缺陷
C、定量線及定量線以上的缺陷
D、I區(qū)的缺陷

3.單項選擇題JB 3963-85標(biāo)準(zhǔn)中進行等級分類的依據(jù)是()

A、單個缺陷反射波幅
B、缺陷引起的底波降低量
C、缺陷密集區(qū)占探傷總面積百分比
D、以上都可以作為獨立評級的依據(jù)

4.單項選擇題按JB3963-85標(biāo)準(zhǔn)檢驗餅形鋼鍛件時,應(yīng)記錄的缺陷是()

A、≥Φ3mm當(dāng)量的密集區(qū)
B、當(dāng)量>Φ4mm的單個缺陷
C、當(dāng)量等于Φ4mm的缺陷密集區(qū)
D、b和c

最新試題

二次打底焊接或重熔排除,無需辦理相關(guān)手續(xù),直接使用前次的申請手續(xù)。

題型:判斷題

超差缺陷是否排除,由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請、檢驗蓋章認(rèn)可后送X光檢測。

題型:判斷題

X射線檢驗人員負(fù)責(zé)對需排除的超標(biāo)缺陷實施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。

題型:判斷題

焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是()。

題型:單項選擇題

觀察底片時,為能識別缺陷圖像,缺陷圖像對比度與圖像噪聲之比應(yīng)不小于識別閾值。

題型:判斷題

為了提高射線照相對比度,可以采用高電壓、短時間、大管電流的方式曝光。

題型:判斷題

缺陷分類應(yīng)符合驗收標(biāo)準(zhǔn)的要求,標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗范疇的缺陷,必要時可予以注明供有關(guān)人員參考,但不作為合格與否判定的依據(jù)。

題型:判斷題

廢舊藥液應(yīng)采用專用容器收集,定期送指定的機構(gòu)處理。

題型:判斷題

對焊接接頭穩(wěn)定時間有規(guī)定的產(chǎn)品,工藝規(guī)程應(yīng)作出規(guī)定,檢驗監(jiān)控確認(rèn),檢驗蓋章時穩(wěn)定時間不足者應(yīng)在申請單注明穩(wěn)定時間節(jié)點,否則X光室視為穩(wěn)定時間符合要求。

題型:判斷題

增加工藝性透視有利于保證焊接質(zhì)量,因此盡可能增加工藝性透視次數(shù)。

題型:判斷題